| 字段 | 字段内容 |
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| 009 | $0: 12003935574 |
| 010 | $a: 7-5639-1300-9$d: CNY50.00 |
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| 100 | $a: 20040916d2004 em y0chiy0110 ea |
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| 102 | $a: CN$b: 110000 |
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| 200 | $a: 电子束曝光微纳加工技术$9: dian zi shu pu guang wei na jia gong ji shu$f: 顾文琪主编 |
| 210 | $a: 北京$c: 北京工业大学出版社$d: 2004 |
| 215 | $a: 310页$c: 照片，图$d: 26cm |
| 300 | $a: 电子束、离子束、光子束微纳加工技术系列专著 |
| 314 | $a: 顾文琪（1941～），中国科学院电工研究所研究员，博导。曾任中国科学院电工研究所微细加工研究室主任、副所长，中国科学院高技术局局长、综合计划局局长。 |
| 330 | $a: 本书系统地介绍了电子束曝光技术的发展历史和原理、系统的组成和分类、应用和发展前景，同时，详细介绍了多种先进的电子束曝光机的性能和技术指标，电子光学柱、精密工件台等分部件和掩模版制作、电子束直刻等关键技术。 |
| 606 | $a: 电子束光刻$x: 研究 |
| 690 | $a: TN305$v: 4 |
| 701 | $a: 顾文琪$9: gu wen qi$4: 主编 |
| 801 | $a: CN$b: 110017$c: 20041009 |
| 905 | $a: LITL$b: 608675-79$d: TN305$r: CNY50.00$e: G515 |
| 999 | $a: 03$b: 5$e: 2005102 |
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