| 字段 | 字段内容 |
|---|---|
| 001 | 0119001425 |
| 005 | 20190412151131.2 |
| 010 | $a: 978-7-5170-7439-7$d: CNY57.00 |
| 100 | $a: 20190412d2019 em y0chiy50 ea |
| 101 | $a: chi |
| 102 | $a: CN$b: 110000 |
| 105 | $a: ak a 000yy |
| 106 | $a: r |
| 200 | $a: 磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能$A: ci kong jian she zhi bei dan hua tong bo mo de jie gou yu xing neng$f: 肖剑荣著 |
| 210 | $a: 北京$c: 中国水利水电出版社$d: 2019.04 |
| 215 | $a: 173页$c: 图$d: 24cm |
| 320 | $a: 有书目 (第97-173页) |
| 330 | $a: 磁控溅射是一种通用、成熟的薄膜制备工艺技术, 其制备工艺可调剂参数较多, 通过精细控制能够实现对薄膜结构的有效调控。本书研究了薄膜的工艺参数、薄膜结构与性能等之间的内在关系, 探讨了薄膜的电子输运、光学带隙、热稳定性的有关物理量的变化机制。 |
| 606 | $a: 铜$A: tong$x: 金属薄膜$x: 性能分析 |
| 690 | $a: TF811$v: 5 |
| 701 | $a: 肖剑荣$A: xiao jian rong$4: 著 |
| 801 | $a: CN$b: 人天书店$c: 20190412 |
| 999 | $b: 1 |
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